MIKRON M345 X-LC低溫大面源是液冷的兩件式系統，包括控制器模塊和單獨的外殼，孔徑為 152 x 152毫米（6 x 6英寸）  ，溫度范圍為- 40至100°C。

高有效發(fā)射率

高精度和高分辨率（0.01°C）

出色的穩定性，在靜止空氣環(huán)境中每8小時(shí)0.02°C

預熱時(shí)間為15分鐘（-40°C）

MIKRON M345 X-LC低溫大面源 的制冷型版本，便于更低溫度的校準！

方形大面積源，校準紅外熱像儀系統、輻射計、熱流量計、光譜分析儀。  

Mikron M345X6-LC黑體源是液體冷卻和通過(guò)精密熱電模塊（珀耳帖方法）加熱。它具有或差分配置。

M345X6-LC校準源可滿(mǎn)足靜態(tài)和動(dòng)態(tài)場(chǎng)景應用中紅外焦平面陣列檢測器，熱成像和前視紅外（FLIR）系統測試的嚴格參數。它們具有快速擺率，高發(fā)射率以及高的穩定性和均勻性。

技術(shù)參數

溫度范圍：-40 ... 100°C

加熱及發(fā)射腔體形狀：熱均勻面

輻射率：有效輻射率= 0.975@8...15 μm(其他波段的輻射率溫度校準表有效)

標準校準方法：接觸式溫度計校準

發(fā)射面尺寸：

M345 X4-LC: 101 x 101 mm

M345 X6-LC: 152 x 152 mm

M345 X8-LC: 204 x 204 mm

M345 X12-LC: 305 x 305 mm

溫度精度：100mk

平均升溫時(shí)間：15 分鐘 (X4, X6至 -40°C; X8, X12 至 -20°C))

尺寸 [mm] (HxD) / 重量：X4: 197 x 190 x 165 to X8: 267 x 254 x 203

控制模塊: 178 x 483 x 593